設備說明：
該設備是參考國外先進技術，研制開發的一種物理氣相沉積（PVD）真空鍍膜設備，可同時安裝兩至四種不同純金屬或合金靶材，進行單層或多層（納米）膜的鍍制。適用于各類鉆頭、銑刀、齒輪刀具、拉刀、絲錐、剪刀、刮面刀片、鑄模、注塑模、磁粉成型模，沖剪模等。通過對工件表面在物理、化學、機械、顏色等方面的改性，達到耐磨、超硬、自潤滑的效果。
設備說明：
該設備是參考國外先進技術，研制開發的一種物理氣相沉積（PVD）真空鍍膜設備，可同時安裝兩至四種不同純金屬或合金靶材，進行單層或多層（納米）膜的鍍制。適用于各類鉆頭、銑刀、齒輪刀具、拉刀、絲錐、剪刀、刮面刀片、鑄模、注塑模、磁粉成型模，沖剪模等。通過對工件表面在物理、化學、機械、顏色等方面的改性，達到耐磨、超硬、自潤滑的效果。
主要特點：
1、 采用反應氣體等離子源輔助沉積，對工件進行預清洗及鍍膜時的輔助沉積；
2、 采用大功率的脈沖偏壓電源，使工件與膜層獲得更好的結合力；
3、 采用多套孿生靶及弧，可同時安裝2~4種不同純金屬或合金靶材，獲得復合納米鍍層；
4、 工件架采用公、自轉結構，承重能力強及耐高溫，并可移動出腔體，方便裝卸比較重的模具；
5、 觸摸屏+PLC，可實現全自動控制，自動/手動隨時切換。
| JYD系列硬質膜層（刀銑具）真空鍍鍍膜機 型號及技術參數 |
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| 性能 型號 | JYDC-9010 | JYDC-1012 | JYDC-1213 |
| 鍍膜室尺寸 | Ф900×H1000mm | Ф1000×H1200mm | Ф1200×H1300mm |
| 電源類型 | 脈沖偏壓電源、電弧靶電源、脈沖電弧靶電源、離子離化電源 | ||
| 真空室結構 | 立式前開門單門、雙門結構、后置抽氣系統，臥式、滾鍍、側置抽氣系統 | ||
| 真空室材質 | 全優質不銹鋼材質、雙層室體 | ||
| 極限真空 | 8.0X10-4Pa | ||
| 抽氣時間 | 從大氣抽至8.0×10-3Pa≤16分鐘 (空載） | ||
| 真空獲得系統 | 擴散泵或分子泵+羅茨泵+機械泵+維持泵（具體型號可根據客戶的要求進行配置） | ||
| 制膜種類 | 金屬膜、反應膜、化合物膜、多層膜、半導體膜、超硬膜 | ||
| 多弧靶類型 | 圓型60-100電弧靶、矩型電弧靶、圓柱型電弧靶、電磁電弧靶 | ||
| 電弧電源功率及電弧靶數量 | 根據不同鍍膜工藝和客戶的需求進行選配 | ||
| 偏壓電源 | 30KW/1臺 | 40KW/1臺 | 50KW/1臺 |
| 工件轉架 轉動方式 | 行星式公自轉、變頻調速（可控可調） | ||
| 工藝氣體 | 3路或4路工藝氣體流量控制及顯示系統 選配自動加氣系統 | ||
| 冷卻方式 | 水循環冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業冷水機或深冷系統。（客戶提供） | ||
| 控制方式 | 手動/自動一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計算機控制 | ||
| 整機總功率 | 55KW | 70KW | 90KW |
| 報警及保護 | 對泵和靶等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警，并執行相應保護措施及電氣聯鎖功能。 | ||
| 設備占地面積 | W2m×L3m | W3m×L4m | W4.5m×L6m |
| 其他技術參數 | 水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa | ||
| 其它機型 | 可以按照客戶需求針對產品“量身定做”設計專用鍍膜機 | ||
