1. 可鍍制高級電器和通訊用觸點材料，在長扁絲表面上鍍金膜；在柔性襯底、玻璃襯底上鍍CdTe/CdS；在SiC絲上鍍鈦合金等材料
2. 矩形磁控靶兩套，繞線筒濺射成膜
3. 轉盤支架上加直流負偏壓
4. 射頻清洗系統，用于樣品反濺清洗
5. 繞線筒的選材和工作方式滿足金屬絲材（根據客戶要求調整）的使用，考慮其熱脹冷縮對絲材的影響
基本參數：
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爐體尺寸 |
Ф1100XH950 |
有效空間 |
Ф750XH500 |
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應用技術 |
IET+SmallARC |
靶材數量 |
10Pcsxφ100 |
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標準涂層 |
TiN, CrN, AlCrN, etc. |
其他復合涂層 |
TiAlCrN, TiSiN,TiAlCN,etc. |
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生產周期 |
5小時/爐 |
外圍尺寸 |
L4500XW2650XH2400mm |
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使用范圍 |
貼片電阻，貼片電容，復合金觸點，3C線路板，工件等 |
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